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Laboratorio MOCVD per la realizzazione di celle fotovoltaiche a concentrazione

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Laboratorio MOCVD per la realizzazione di celle fotovoltaiche a concentrazione

Insieme dei laboratori per la crescita delle celle fotovoltaiche multi giunzione, mediante il processo MOCVD, e il relativo post-processing fino all’ottenimento delle celle funzionanti, adatte all’utilizzo in impianti fotovoltaici a concentrazione.Laboratori operativi presso la sede di RSE di Piacenza

Presso la struttura sperimentale operano mediamente 15 persone, incluso personale in stage. I laboratori sono organizzati in diverse aree, alcune delle quali camere pulite in classe 1.000 e 100.000, e ospitano le apparecchiature di seguito descritte per sommi capi.

MOCVD lab

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Il reattore MOCVD (Metal Organic Chemical Vapour Deposition) è dotato di una camera di reazione innovativa, finanziata dal progetto europeo APOLLON, per la deposizione epitassiale di composti III-V. Il reattore consente la realizzazione di film sottili multipli, che costituiscono celle fotovoltaiche a multipla giunzione e strutture LED. Le principali caratteristiche sono: nuovo sistema di riscaldamento in grado di modulare il profilo di temperatura dei wafer; nuovo sistema di iniezione dei gas; nuovo sistema di diagnostica in situ (curvatura e temperatura dei wafer durante la crescita); 16 sorgenti metallorganiche; 7 sorgenti di idruri.

Laboratorio Fotolitografia e Processi “Post-Growth”

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Le apparecchiature consentono lo sviluppo e l’esecuzione delle diverse fasi di processo necessarie a giungere al dispositivo finale. Si cita in particolare la deposizione delle griglie metalliche frontali e posteriori mediante litografia con fascio elettronico, eseguita con un microscopio elettronico a scansione che consente ampia versatilità nella generazione delle geometrie di griglia. Sono inoltre presenti:
Cinque cappe chimiche per esecuzione di attacchi chimici selettivi con solventi, acidi, basi, necessari in diverse fasi del processo di fabbricazione di dispositivi;
Un evaporatore di metalli per la deposizione dei contatti frontale(griglia) e posteriore;
Un forno di trattamento termico rapido, che consente rampe con velocità fino a 200 °C/s e trattamenti fino a 1.000 °C dotato di lampade infrarosse ad elevata potenza;
Una saldatrice a filo, che consente saldature su piccoli dispositivi con fili di oro o alluminio;
Un evaporatore per la deposizione di ossidi anti-riflesso.

Laboratorio di Caratterizzazione Materiali

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Il laboratorio è dotato di strumentazione molto avanzata per la caratterizzazione dei materiali cresciuti mediante MOCVD, fra cui un diffrattometro a raggi X a doppio cristallo ed elevata risoluzione.
Il laboratorio include anche: un POLARON per la determinazione dei droganti nei semiconduttori e delle proprietà fotovoltaiche dei materiali; un profilometro a stilo, per la determinazione di spessori sottili dei film, a elevatissima precisione; un sistema di misura a effetto Hall per la determinazione della concentrazione dei portatori di carica.

Laboratorio di caratterizzazione di dispositivi (celle e moduli a concentrazione)

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Il laboratorio include strumentazione e inseguitori per misura di caratteristiche I/V indoor e outdoor e banco ottico per misure di fotoluminescenza e di risposta spettrale delle celle.

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Scheda Aggiornata Set-2014

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